[新品] 新型硫酸钡胶体磨(NKD2000)

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公司有样机可供客户实验，欢迎广大客户来我司参观指导，价格面议，联系人张猛。

对于硫酸钡溶液的生产，目前许多厂家采用国产胶体磨生产，由于国产胶体磨本身转速较低为2930转，生产出来的硫酸钡溶液粒径一般在20μK左右，而且生产效果很低，需要研磨5-6小时。而使用cik研磨分散机进行处理，研磨两遍，粒径可以细化到5μK，效果好，效率高。
 
硫酸钡NKD2000系列研磨分散设备是cik（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4K，6F，8SF等五种乳化头供客户选择） 

切可硫酸钡胶体磨的特点：

1、线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

2、 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3、定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4、在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

5、高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
 NKD2000设备型号表：

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