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硅片显影台 用于晶片的显影工艺, 控制模式: 手动控制模式 自动控制模式, 清洗能力:2-4英寸晶片。 需甲方提供花篮。 设备形式: 室内放置型。 洁净度:千级洁净室 。 工艺说明:手动方式实现放片(工件),取片(工件),槽体间传送片。 工艺参数(温度,时间,DI水清洗流量,时间)手动设定。 设备台面布局按用户要求配制。
浙公网安备 33010602000811号