脱硝设备

    江苏回转窑工业烟气脱硝设备

回转窑脱硝选择性非催化还原技术就是用NH3、尿素等还原剂喷入窑内与NOX进行选择性反应，不用催化剂，因此必须在高温区加入还原剂，而且还需要一定的停留时间。还原剂喷入窑内合适的温度区域，该还原剂（尿素）迅速热分解成NH3并与烟气中的NOX进行SNCR反应生成N2，该方法是以回转窑内为反应器。

在回转窑内这一狭窄的温度范围内、在无催化剂作用下，NH3或尿素等氨基还原剂可选择性地还原烟气中的NOX，基本上不与烟气中的O2作用，据此发展了SNCR法。在一定温度范围内，NH3或尿素还原NOX的主要反应为：

NH3为还原剂

4NH3+4NO+O2→4N2+6H2O

尿素为还原剂

NO+CO(NH2)2+1/2O2→2N2+CO2+H2O

当温度高于1100℃时, NH3则会被氧化为

4NH3+5O2→4NO+6H2O

不同还原剂有不同的反应温度范围，此温度范围称为温度窗。NH3的反应温度区为850～950℃。当反应温度过高时，由于氨的分解会使NOX还原率降低，另一方面，反应温度过低时，氨的逃逸增加，也会使NOX还原率降低。NH3是高挥发性和有毒物质，氨的逃逸会造成新的环境污染。

引起SNCR系统氨逃逸的原因有两种，一是由于喷入点烟气温度低影响了氨与NOX的反应；另一种可能是喷入的还原剂过量或还原剂分布不均匀。还原剂喷入系统必须能将还原剂喷入到窑内有效的部位，因为NOX在窑内的分布经常变化，如果喷入控制点太少或喷到炉内某个断面上的氨分布不均匀，则会出现分布较高的氨逃逸量。在直径较大的回转窑中，还原剂的均匀分布则更困难，因为较长的喷入距离需要覆盖相当大的回转窑内截面。为保证脱硝反应能充分地进行，以少的喷入NH3量达到好的还原效果，必须设法使喷入的NH3与烟气良好地混合。