产品概述:
诺泰高真空PECVD系统是由管式炉,真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。系统主要应用于金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,石墨烯等生长。PECVD系统增加功能容易,可扩展等离子清洗刻蚀等功能,PECVD系统薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等优点。
高真空PECVD系统主要特点:
1.通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2.PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3.可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4.PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5.广泛应用于:各种薄膜的生长,如:SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
技术参数:
产品名称
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高真空PECVD系统
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滑轨管式炉部分
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产品型号
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PT-T1200
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炉管尺寸
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Φ50mmX1600mm
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炉管材质
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石英管
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加热区
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300mm
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工作温度
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1100℃
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***高温度
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1200℃
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温控方式
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K型热电偶
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控制方式
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触屏控制,带独立摇臂,可以根据实际使用需求,调节温控屏的角度,使用更方便
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控温精度
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±1℃
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温控保护
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具有超温和断偶保护功能
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升温速率
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0-20ºC/min ,建议10ºC/min
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加热元件
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含钼电阻丝
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工作电压
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AC 220V 单相 50HZ (电路电压用户可选择定制)
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加热功率
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3KW
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炉膛材料
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氧化铝多晶纤维
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炉体结构
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炉体带滑轨,可实现快速升温和降温
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法兰接头
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标配配有两个不锈钢真空法兰,已安装机械压力表和不锈钢截止阀
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密封系统
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该炉炉管与法兰之间采用硅胶O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸,气密性好。
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壳体
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不锈钢壳体
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选配
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辅助降温风扇
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真空系统部分
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名称
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真空系统
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主要参数
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1.采用进口安捷伦高真空分子泵组,极限真空度可达10-3pa
2.KF25快接,不锈钢波纹管,手动挡板阀与法兰,真空泵相连;
3.数字式真空显示,其测量范围为5×10-5- 1500mbar,测量精度高高
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气路系统部分
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名称
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四路质量流量计
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主要参数
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四通道精密质量流量计:触屏控制,数字显示,自动控制。流量范围流量范围:
1.MFC 1-MFC4:0-1000sccm可调
2.一个混气罐
3.4个不锈钢针阀安装在供气系统的左侧,可手动控制4种气体;
4.进出气口:3进1出
流量控制:手动旋转式调节
连接方式:双卡套连接
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等离子电源部分
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名称
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500W等离子电源
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功率范围
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0-500W(连续可调)
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工作频率
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13.56MHZ+0.005%
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工作模式
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连续输出
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射频输出阻抗接口
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N-type,female(50Ω)
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功率稳定度
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≤2W
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***大反射功率
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70W
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电源保护设置
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DC过流保护,功放过温保护,反射功率保护
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供电电压/频率
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单相交流(187V-253V)50-60HZ
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冷却方式
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风冷
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整机尺寸
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88X483X550 MM
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整机重量
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13.5KG
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认证
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ISO认证、CE认证
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售后服务
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质保一年,终身保修(耗材类:高温密封圈、炉管、加热元件等不属于质保范围)
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