◆ 用途
BN303系列紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的阴图型光致抗蚀剂，主要用于中小规模集成电路、分立器件及其它微型器件的制作。
◆ 产品特点
Ø 涂布性能：在多种基片上均有良好的粘附性
Ø 感光性能：对宽谱紫外线(高压汞灯)敏感
Ø 分辨率：实用分辨率可达5μm
Ø 抗蚀性能：抗湿法腐蚀性能良好
◆ 产品规格
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(30℃),mPa.s
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膜厚（μm）
(转速:4000转/分)
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(％)
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(ppm)
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BN303-30
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29.0±1.5
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0.85～0.95
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≥60
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≤1
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≤0.02
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BN303-45
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42.0±2.0
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0.95~1.15
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≥60
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≤1
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≤0.02
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BN303-60
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60.0±2.0
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1.05～1.15
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≥65
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≤1
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≤0.02
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BN303-60H
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60.0±2.0
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1.3-1.5
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≥65
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≤1
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≤0.02
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BN303-100
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100.0±10.0
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2.0～2.3
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≥75
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≤1
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≤0.02
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BN-303-100TS
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100.0±10.0
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1.9~2.1
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≥75
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≤1
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≤0.02
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◆ 参考使用工艺
Ø 涂胶：旋转涂布，温度20℃～25℃，湿度60%以下
Ø 前烘：对流烘箱，80℃，20min
Ø 曝光：高压汞灯曝光，曝光量15-35 mj/cm2
Ø 显影：BN负胶显影剂，室温浸入显影1～2min
Ø 漂洗：BN负胶漂洗剂, 室温浸入漂洗1min
Ø 坚膜：对流烘箱，130～140℃，30min
Ø 湿法腐蚀：依用户工艺而定
Ø 去胶：BN负胶去膜剂，90~110℃，10~20min
供应商参考报价：面议
太阳能光伏：
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