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手动无接触硅片测试仪(HS-NCS-300)

手动无接触硅片测试仪
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· 北京合能阳光新能源技术有限公司 [北京市] 加为商业伙伴
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所在城市: 北京市 通州区
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   手动无接触硅片测试仪(HS-NCS-300型)可以测量硅片厚度、总厚度变化 TTV 、弯曲度,该仪器适用于 Si , GaAs , InP , Ge 等几乎所有的材料,所有的设计都符合 ASTM( 美国材料实验协会 ) 和 Semi 标准,确保与其他工艺仪器的兼容与统一。 产品特点:  无接触测量  适用的晶圆材料包括Si,GaAs,InP,Ge等几乎所有的材料  厚度和 TTV 测量采用无接触电容法探头  高分辨率液晶屏显示厚度和 TTV 值  性价比高  菜单式快速方便设置  高分辨率液晶 LCD 显示  提供和计算机连接的输出端口  提供打印机端口  便携且易于安装  为晶圆硅片关键生产工艺提供精确的无接触测量  高质量微处理器为精确和重复精度高的测量提供强力保障  高质量 聚四氟乙烯晶圆测试架,为晶圆硅片精确定位提供保障 技术指标:  晶圆硅片测试尺寸: 50 mm - 300mm.  厚度测试范围: 1000 u m , 可扩展到 1700 um.  厚度测试精度: +/-0.25um  厚度重复性精度: 0.050um

 TTV 测试精度 : +/-0.05um  TTV 重复性精度 : 0.050um  弯曲度测试范围: +/-500um [+/-850um]  弯曲度测试精度: +/-2.0um  弯曲度重复性精度: 0.750um  晶圆硅片导电型号: P 或 N 型  材料: Si , GaAs , InP , Ge 等几乎 所有半导体材料  可用在: 切片后、磨片前、后, 蚀刻,抛光 以及出厂、入厂质量检测等  平面 / 缺口:所有的半导体标准平面或缺口  硅片安装:裸片,蓝宝石 / 石英基底, 黏胶带  连续 5 点测量 应用范围: > 切片   >>线锯设置     >>>厚度     >>>总厚度变化TTV   >>监测     >>>导线槽     >>>刀片更换 >  磨片/刻蚀和抛光   >> 过程监控   >> 厚度   >> 总厚度变化TTV   >> 材料去除率   >> 弯曲度   >> 翘曲度   >> 平整度 > 研磨   >> 材料去除率 > ***终检测   >> 抽检或全检   >>  终检厚度 典型客户: 美国,欧洲,亚洲及国内太阳能及半导体客户。

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