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气密性封装真空共晶炉(HV3)

气密性封装真空共晶炉
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1、焊接温度:HV3型真空共晶炉实际焊接***高温度500℃。

2、真 空 度:极限真空度≤10-4 Pa 工作真空:10-4Pa。 

3、有效焊接面积:≤260mm*240mm

4、炉膛高度: ≤100mm,特殊高度定制。

5、加热方式:采用底部红外辐射加热+顶部红外辐射加热,热板采用半导体级碳化硅石墨

平台,碳化硅石墨平台长期使用不易变形,而且具有很高导热性,使热板表面温度更加均匀。

6、温度均匀性:有效焊接面积内≤±2%。

7、升温速率:石墨加热平台***大升温速率≤120℃/min。

 HV3真空共晶炉选上加热,提高加热效率的同时,使平台温度更加均匀,提高焊接一致性

及质量,升温速率可控。

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