一、适用范围
适用于非晶硅薄膜太阳能电池的透明导电膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、AI）等材质的激光刻线，及其它薄膜太阳能电池的膜层刻膜（钙钛矿薄膜、金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜）。
二、技术特点
◆可根据不同使用场景及工艺要求配置合适的激光器
◆非接触式气浮工作平台，自动进出料
◆二维分离式直线运动平台，电池板膜面朝上运动
◆CCD自动识别与定位系统，保证刻线（清边）效果
◆独特的抽尘集尘系统，确保工作环境的洁净度
三、技术参数
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设备型号
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SE-P(1-5)
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有效加工幅面
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1400mmx1000mm（可根据需求定制）
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***大运行速度
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2000mm/s(P1/P2/P3/P5)，200mm/s(P4)
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重复定位精度
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±10μm/1000mm
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刻线直线度
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±10μm/1000mm
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***小刻膜线宽
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30~60μm
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清边宽度
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5~20mm
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三线外沿总宽度
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300~500μm
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供应商参考报价：￥450000
太阳能光伏：
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