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[新品] 纳米氧化铝抛光液高速研磨分散机(CMSD2000)

纳米氧化铝抛光液高速研磨分散机
供应商参考报价:¥108900
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详细信息  

纳米氧化铝抛光液高速研磨分散机、纳米金属氧化物高剪切湿磨机,纳米氧化铝粒子高速纳米分散机,氧化铝浆料高速管线式分散机。

纳米氧化铝是指粒径小于100nm的超细氧化铝颗粒。由于纳米颗粒的特殊效应,如表面效应、量子尺寸效应、体积效应和宏观量子隧道效应,纳米氧化铝在热学、光学、电学、磁学和化学等方面展现出优异的性能。因此,它被广泛应用于传统产业以及新材料、微电子、宇航工业等高科技领域。例如,纳米α氧化铝可以提升陶瓷的致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂增韧性、抗蠕变性能以及高分子材料的耐磨性;纳米α氧化铝还可以作为高效的远红外发射材料和保温材料,应用于化纤产品和高压钠灯中;此外,纳米α氧化铝还用于制备YAG激光晶体和电绝缘材料。

  IKN已为多所企业、研究院提供纳米氧化铝浆料分散研磨技术,经验丰富,能够接受多种物料,宽的粒径范围与黏度范围,并可应对高固含量浆料。

ERS2000系列作为一款用于混合分散工艺的设备,具备连续操作的特点,因此也被称为连续式超高速混合乳化机。它能够更好地满足大规模连续生产的需求,与传统批次乳化机相比,具有以下优势:

1. 分散效率高:传统批次乳化机在乳化前通常需要预搅拌,才能达到较好的分散乳化效果,这使得整个过程耗时较长,产量较低,适合间歇生产或小规模生产。而连续式乳化机可以直接投料,在更短时间内实现所需的混合分散效果,产量大、效率高,特别适合大规模连续生产。

2. 分散效果好:传统批次分散乳化机安装在罐体内,物料与乳化头接触较为松散,工作时依靠吸力使物料进入分散头,但在此过程中部分物料可能会逃逸,导致混合乳化后的颗粒分布较宽。此外,传统批次乳化机的分散头通常是单层结构,难以实现极小的颗粒尺寸。而连续式乳化机的乳化腔体内部空间紧凑,乳化头与物料接触紧密,剪切效果充分。同时,其乳化腔体采用多层转定子咬合结构,并优化了齿形设计,能够实现更窄的颗粒分布,提高分散效率。

3. 技术功能指标更高:与传统批次分散机相比,ERS2000系列管线式分散机在相同功率的电机下,具有更高的转速(***高可达14000RPM),能够在更短时间内处理更多符合要求的物料,从而帮助大规模生产企业降低生产成本。

 

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级

电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、

电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

电机选配件: PTC 热保护、降噪型

研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷

研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车

研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理

进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍

研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

 

选型表:

产品系列 型号 标准流量
L/H
输出转速
rpm
标准线速度
m/s
马达功率
kW
出入口连接尺寸
ERS2000 2000/04 300-1000 14,000  44 4 DN25/DN15
2000/05 1000-1500 10,500  44 11 DN40/DN32
2000/10 3,000  7,300  44 30 DN50/DN50
2000/20 8,000  4,900  44 45 DN80/DN65
2000/30 20,000  2,850  44 75 DN150/DN125
2000/50 40,000  2,000  44 160 DN200/DN150

 

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