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去胶清洗台
设备名称:去胶清洗台适用于:2-6寸晶圆清洗产品规格控制模式:半自动控制(工件搬运为手动操作,工艺参数控制过程为自动)整机尺寸: ...
更新:2014-01-11
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显影清洗设备
名称:显影清洗设备产品规格控制模式:全自动控制总体规格:6300mm(L)×1300mm(W)×1850mm(H)工件材料:ITOGLASS / FILM
更新:2014-01-11
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玻璃基板中间水洗设备
产品GLASS670mm(L)*550mm(W)*(T=3mm)产能传输轨道单轨道输送方式,轨道有效宽550mm工作方向自左向右或从右向左由客户定方向传输速度速 ...
更新:2014-01-11
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柔性材料清洗设备
设备参数 设备型号 KZ-FD-C-BRW-6A设备规格 25350mm*1250mm*1500mm(L*W*H)设备亮点 功能显影-蚀刻-脱膜 产能 单道输送
更新:2014-01-11
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全自动SPM超声清洗设备
设备名称:全自动SPM超声清洗设备产品规格设备型号:KZIC-T-CW-04A整机尺寸:2500mm(L)X1950mm(W)X2100mm(H)(尺寸可据客户需求改变)生 ...
更新:2014-01-11
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有机清洗设备
设备名称:有机清洗台适用于:2-6寸硅片清洗产品规格控制模式:半自动控制(工件搬运为手动操作,工艺参数控制过程为自动)总体规格: ...
更新:2014-01-11
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蚀刻清洗机
设备名称:蚀刻清洗机适用于:2-6寸晶圆刻蚀清洗产品规格控制模式:半自动控制(工件搬运为手动操作,工艺参数控制过程为自动)总体规 ...
更新:2014-01-11
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酸清洗台
设备名称:酸清洗台适用于:2-6寸硅片清洗产品规格控制模式:半自动控制(工件搬运为手动操作,工艺参数控制过程为自动)总体规格: 12 ...
更新:2014-01-11
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碱清洗台
设备名称:碱清洗台适用于:2-6寸硅片清洗产品规格控制模式:半自动控制(工件搬运为手动操作,工艺参数控制过程为自动)总体规格: 12 ...
更新:2014-01-11
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显影清洗台
设备名称:显影清洗台适用于:2-6寸晶圆清洗产品规格控制模式:半自动控制(工件搬运为手动操作,工艺参数控制过程为自动)整机尺寸: ...
更新:2014-01-11
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背抛光刻蚀清洗设备
技术优势:1.可观的电池效率提升,根据不同的工艺基础,可提升0.2%-0.3%。2.集扩散后抛光和湿法刻蚀与一体(专利技术),无需额外设备 ...
更新:2014-01-11
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全自动LED化学清洗机
设备名称:全自动LED化学清洗机适用于:2-6英寸LED基板清洗产品规格控制模式:全自动控制
更新:2014-01-11
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高温磷酸清洗机
设备名称:高温磷酸清洗机适用于:2-6英寸硅片清洗工艺流程:上料→预热→蚀刻1→蚀刻2→降温→QDR→下料产品规格控制模式:全自动控制
更新:2014-01-11
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腐蚀清洗台
设备概况:A.设备名称:腐蚀清洗台B. 设备型号:KZIC-T-IOGSW-04BC. 整机尺寸:约2400mm(L)×1000mm(W)×1850mm(H);D. 操作台面高度: ...
更新:2014-01-11
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无机显影清洗台
一、 设备概况A. 设备名称:无机显影洗机台B. 设备型号:KZIC-T-WJDW-04BC. 整机尺寸:约1500mm(L)×1200mm(W)×1800mm(H);D. 操作台 ...
更新:2014-01-11
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有机去胶清洗台
一、 设备概况:A. 设备名称:有机去胶清洗台B. 设备型号:KZIC-T-OGSW-05BC. 整机尺寸:约1700mm(L)×1300mm(W)×1850mm(H);D. 操作 ...
更新:2014-01-11
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多晶制绒清洗设备
设备简述设备名称:多晶制绒清洗设备适用于:用于多晶硅电池生产线中的酸腐蚀制绒和扩散前清洗工序
更新:2014-01-11
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石墨舟清洗机
设备名称:石墨舟清洗机产品规格:控制模式:半自动控制(工件搬运为手动操作,工艺参数控制过程为自动)设备尺寸:3500mm(L)*1100mm ...
更新:2014-01-11
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石英管清洗机
设备名称:石英管清洗机产品规格:控制模式:半自动控制(工件搬运为手动操作,工艺参数控制过程为自动)设备尺寸:3200mm(L)*580mm ...
更新:2014-01-11
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单晶制绒清洗机
适用于:单晶硅电池生产线的切片后去损伤层、清洗、和制绒控制模式:全自动控制产品特点:骨架由优质碳素结构钢Q235A,外包3mm的PP板防 ...
更新:2014-01-11
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