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磁控溅射镀膜机 磁控溅射镀膜机(NSC-3500（A）)
NSC-3500（A）全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达到6"旋转平台，支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套 ...
更新:2024-04-22
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全自动反应离子刻蚀机 全自动反应离子刻蚀机(NRE-3500（A）)
NRE-3500（A）全自动反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖 ...
更新:2024-04-22
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原子层沉积设备 原子层沉积设备(NLD-4000（M）)
NLD-4000（M）原子层沉积系统概述：原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术，具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深 ...
更新:2024-04-22
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晶圆清洗设备 晶圆清洗设备(SWC-4000)
SWC-4000兆声晶圆（掩模版）清洗机概述：兆声和清洗技术的发展，对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平，可以帮助用户获 ...
更新:2024-04-22
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ICPECVD等离子体化学气相沉积 ICPECVD等离子体化学气相沉积(NPE-4000（ICPA）)
NPE-4000（ICPA）全自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER ICPECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到z大 ...
更新:2024-04-22
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