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打胶台清洗台 打胶台清洗台(RT-GZT)
1.铝合金框架。尺寸:2200*1200*8002.高密度板,铺设2mm厚的高档绿色防静电毯。3.尺寸大小可按客户的要求定。
更新:2016-07-15
·丹阳瑞特光伏设备有限公司
主营:光伏焊接工作台,流水线焊接台,叠层台,观察架,EVA/TPT裁切台,焊带裁切机,装框机,修...
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清洗台,打胶台,接线盒工作台 [新品] 清洗台,打胶台,接线盒工作台
清洗,打胶,接线,返修
更新:2015-08-03
·镇江博宇自动化设备有限公司
主营:单串焊恒温焊接台,125/156串焊模,电池串周转盒,电池串吸盘,单串焊加热板及温控,组...
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有机去胶清洗台 有机去胶清洗台
一、 设备概况:A. 设备名称:有机去胶清洗台B. 设备型号:KZIC-T-OGSW-05BC. 整机尺寸:约1700mm(L)×1300mm(W)×1850mm(H);D. 操作台面高度:900±20mm
更新:2014-01-11
·苏州晶洲装备科技有限公司
主营:显影清洗设,蚀刻脱膜设备,PET卷材清洗设备,单片制程清洗设备,玻璃减薄设备,二次强...
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清洗台,打胶台,接线盒工作台,返修工作台 清洗台,打胶台,接线盒工作台,返修工作台
铝合金框架。尺寸:2200*1200*800
更新:2014-09-19
·镇江博宇自动化设备有限公司
主营:125156串焊模板,125156叠层模板,恒温焊接工作台,叠层台,观察架,电池串吸盘,电池串...
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全自动碱清洗台 [新品] 全自动碱清洗台
全自动碱清洗台一、设备外型结构及主要参数名称:全自动碱清洗台。控制模式:手动控制模式 自动控制模式。清洗能力:2-4英寸 1-2篮/批;设备形式: 室内放置型。尺寸(参考,详见图纸,含地脚):3000mm(L)× 1500 mm(W)× 2200 m...
更新:2012-05-16
·北京华林嘉业科技有限公司
主营:LED清洗机,硅片清洗机,石英管清洗机,化学清洗槽,SMP后自动清洗台,全自动下蜡台,硅...
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蓝宝石晶体回料高温蚀刻清洗台 蓝宝石晶体回料高温蚀刻清洗台
蓝宝石晶体回料高温蚀刻清洗台主要用途:机台位于长晶后处理厂房内(室内放置型)进料端为十万级;出料端为千级,其主要功能是对破碎后的晶体进行表面清洗;
更新:2012-11-02
·北京华林嘉业科技有限公司
主营:LED清洗机,OLED清洗机,硅片清洗机,硅片腐蚀机,石英环清洗机,湿法PSS设备,高温磷酸...
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LED晶片有机清洗台 LED晶片有机清洗台(NXXD-QX-00A)
LED晶片有机清洗台LED 晶片酸腐蚀台品牌:《南轩电子》 设备由清洗装置系统、排风系统、电控系统、管道系统、SUS骨架等部分组成。适用于2-4英寸LED晶片有机清洗。清洗数量:每批2篮,每篮25片。
更新:2013-01-12
·北京南轩兴达电子有限公司
主营:半导体溅射清洗台,ic级硅片清洗机,晶片导片机,硅刻蚀机
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碱清洗台 清洗台
设备名称:碱清洗台适用于:2-6寸硅片清洗产品规格控制模式:半自动控制(工件搬运为手动操作,工艺参数控制过程为自动)总体规格: 1200mm(L)×1100mm(W)×2000mm(H)
更新:2014-01-11
·苏州晶洲装备科技有限公司
主营:显影清洗设,蚀刻脱膜设备,PET卷材清洗设备,单片制程清洗设备,玻璃减薄设备,二次强...
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显影清洗台 显影清洗台
设备名称:显影清洗台适用于:2-6寸晶圆清洗产品规格控制模式:半自动控制(工件搬运为手动操作,工艺参数控制过程为自动)整机尺寸:约1400mm(L)×1200mm(W)×1800mm(H)
更新:2014-01-11
·苏州晶洲装备科技有限公司
主营:显影清洗设,蚀刻脱膜设备,PET卷材清洗设备,单片制程清洗设备,玻璃减薄设备,二次强...
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酸清洗台 清洗台
设备名称:酸清洗台适用于:2-6寸硅片清洗产品规格控制模式:半自动控制(工件搬运为手动操作,工艺参数控制过程为自动)总体规格: 1200mm(L)×1100mm(W)×2000mm(H)
更新:2014-01-11
·苏州晶洲装备科技有限公司
主营:显影清洗设,蚀刻脱膜设备,PET卷材清洗设备,单片制程清洗设备,玻璃减薄设备,二次强...
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无机显影清洗台 无机显影清洗台
一、 设备概况A. 设备名称:无机显影洗机台B. 设备型号:KZIC-T-WJDW-04BC. 整机尺寸:约1500mm(L)×1200mm(W)×1800mm(H);D. 操作台面高度:850±20mm
更新:2014-01-11
·苏州晶洲装备科技有限公司
主营:显影清洗设,蚀刻脱膜设备,PET卷材清洗设备,单片制程清洗设备,玻璃减薄设备,二次强...
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去胶清洗台 去胶清洗台
设备名称:去胶清洗台适用于:2-6寸晶圆清洗产品规格控制模式:半自动控制(工件搬运为手动操作,工艺参数控制过程为自动)整机尺寸:约2000mm(L)×1200mm(W)×1800mm(H)
更新:2014-01-11
·苏州晶洲装备科技有限公司
主营:显影清洗设,蚀刻脱膜设备,PET卷材清洗设备,单片制程清洗设备,玻璃减薄设备,二次强...
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腐蚀清洗台 腐蚀清洗台
设备概况:A.设备名称:腐蚀清洗台B. 设备型号:KZIC-T-IOGSW-04BC. 整机尺寸:约2400mm(L)×1000mm(W)×1850mm(H);D. 操作台面高度:900±20mm
更新:2014-01-11
·苏州晶洲装备科技有限公司
主营:显影清洗设,蚀刻脱膜设备,PET卷材清洗设备,单片制程清洗设备,玻璃减薄设备,二次强...
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CVD腐蚀清洗台 CVD腐蚀清洗台
CVD腐蚀清洗台:,品牌:《南轩电子》该设备适用于薄晶圆(到80 µm)以及符合 SEMI单晶圆湿法工艺标准的晶圆。采用标准的湿法工艺对硅晶圆片进行清洁、去胶、刻蚀和光刻。全电脑自动控制方式,保护脆弱的薄晶圆在工艺流程中不...
更新:2013-01-12
·北京南轩兴达电子有限公司
主营:半导体溅射清洗台,ic级硅片清洗机,晶片导片机,硅刻蚀机
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半导体溅射清洗台 半导体溅射清洗台
半导体溅射清洗台 品牌:《南轩电子》⑴超声清洗,加热清洗为单槽定时控制,到时给予结束提示音。⑵工艺过程:上料→支离子水超声清洗→去离子水加热清洗→去离子水冲洗→ 下 料2.结构特点:本设备为柜体式,操作面带有透明门窗...
更新:2013-01-12
·北京南轩兴达电子有限公司
主营:半导体溅射清洗台,ic级硅片清洗机,晶片导片机,硅刻蚀机
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蚀刻清洗台 蚀刻清洗台
蚀刻清洗台适用产业:半导体照明(LED)--PSS工艺段、外延工艺段、芯片工艺段;控制模式:手动控制模式、自动控制模式;制程应用:显影制程; 蚀刻(微蚀刻)制程;去光阻清洗制程;去蜡(胶)清洗制程;精密清洗制程;光罩...
更新:2012-11-02
·北京华林嘉业科技有限公司
主营:LED清洗机,OLED清洗机,硅片清洗机,硅片腐蚀机,石英环清洗机,湿法PSS设备,高温磷酸...
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有机清洗设备 有机清洗设备
设备名称:有机清洗台适用于:2-6寸硅片清洗产品规格控制模式:半自动控制(工件搬运为手动操作,工艺参数控制过程为自动)总体规格: 1800mm(L)×1100mm(W)×2000mm(H)
更新:2014-01-11
·苏州晶洲装备科技有限公司
主营:显影清洗设,蚀刻脱膜设备,PET卷材清洗设备,单片制程清洗设备,玻璃减薄设备,二次强...
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