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PECVD设备
PECVD设备。PECVD是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子化学活性很强，很容易发生反应，在基 ...
更新:2024-04-20
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平板PECVD上料机(LDSD-09S)
平板PECVD上料机是一款将电池片从电池片承载盒中自动放置到平板PECVD框架中的设备；平板PECVD下料机是一款将电池片从平板PECVD框架中放 ...
更新:2014-01-11
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CVD腐蚀清洗台
CVD腐蚀清洗台:，品牌：《南轩电子》该设备适用于薄晶圆（到80 µm）以及符合 SEMI单晶圆湿法工艺标准的晶圆。采用标准的湿法工艺对硅晶 ...
更新:2013-01-12
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CVD红外测温仪(GTHRB)
CVD化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition）是指高温下的气相反应。
更新:2024-04-15
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[新品] CVD系列真空气氛管式炉
CVD系列真空气氛管式炉广泛应用于高、中、低温CVD工艺，例如碳纳米管的研制、晶体硅基板的镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等，可可以适 ...
更新:2022-08-12
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管式PECVD
采用***新DepoE技术制造的管式PECVD用于晶体硅太阳能电池制造中电池片的减反射膜生长。PECVD的镀膜效果直接关系到电池片的***终转换效率 ...
更新:2020-05-20
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HJT异质结电池PECVD设备
异质结电池低温度系数(-0.3%/℃)，同时适合高纬度与近赤道的全部市场具有较高的发电量(在高温环境操作下，异质结电池发电量比多晶硅电池 ...
更新:2014-07-25
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ICP-PECVD镀膜设备
SINGULAR XP ICP-PECVD是一种全自动的创新模块化PECVD镀膜工具,适用于晶硅太阳能电池的大规模生产。此外,SINGULAR正越来越多地应用于适 ...
更新:2013-07-01
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CVD气相沉积炉
CVD气相沉积炉化学气相沉积炉应用领域化学气相沉积炉（沉积炭）可用于以碳氢气体（如C3H8等）为碳源的复合材料的化学气相沉积，如C/C复 ...
更新:2024-04-17
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[新品] 硅碳负极材料专用CVD炉
适用于硅碳负极材料的生产、实验产品特点●炉内密封性及佳，可通入氮气、乙炔、甲烷、丙酮等混合气体。●组合进料方式，进料量精准控制。 ...
更新:2019-10-14
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[新品] CVD真空镀膜机(940L)
立式派瑞林真空镀膜设备，侧开门设计，真空和加热中重要部件进口，经过长期实战验证。安全，可靠，易维护。
更新:2024-04-24
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[新品] 氧化亚硅碳包覆CVD炉(HF-RL20.60)
设备名称：硅碳负极材料用高温cvd碳包覆回转炉设备用途：硅碳复合负极材料CVD气相沉积碳包覆设备进料方式：螺杆进料设备炉胆材质：310S ...
更新:2024-04-10
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气相沉积炉CVD系统(YCVD-1200)
CVD-1200系统由开启式管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化 ...
更新:2017-03-12
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