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低压力化学气相沉积系统(LPCVD) [新品] 低压力化学气相沉积系统(LPCVD)
PCVD system(低压力化学气相沉积系统)。设备主要部件全部选用国际主流知名品牌，适用于IC芯片制造、可控硅芯片制造、二三极管芯片制造 ...
更新:2017-02-06
· 上海微世半导体有限公司
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低压力化学气相沉积系统 低压力化学气相沉积系统(LPCVD)
PCVD system(低压力化学气相沉积系统)。设备主要部件全部选用国际主流知名品牌，适用于IC芯片制造、可控硅芯片制造、二三极管芯片制造 ...
更新:2016-12-06
· 上海微世半导体有限公司
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化学气相沉积CVD [新品] 化学气相沉积CVD
LPCVD system(低压化学气相沉积系统)。设备主要部件全部选用国际主流知名品牌，适用于IC芯片制造、可控硅芯片制造、二三极管芯片制造、 ...
更新:2024-02-21
· 上海微世半导体有限公司
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低压化学气相沉积设备 低压化学气相沉积设备
凭借来自世界各地技术专家的努力，理想能源在短短一年的时 间内就研发出在玻璃基板上沉积透明导电氧化物膜(Transparent Conductive Oxi ...
更新:2013-04-22
· 理想能源设备（上海）有限公司
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