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氮化硅晶须 [新品] 氮化硅晶须
氮化硅晶须,相对密度3.18。熔点:1900℃。具有高强度、高弹性模量、低热膨胀率,以及优良的耐热性、电绝缘性、化学稳定性等特性。硬度大, ...
更新:2024-03-19
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二硅化锆 [促销] 二硅化锆
二硅化锆用作精细陶瓷原料粉,用于生产半导体薄膜生产用坩埚。
更新:2024-03-19
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硅化镁 [促销] 硅化镁
硅化镁(Mg2Si)是Mg-Si二元体系的非常稳定化合物,它具有高熔点、高硬度、高弹性模量的特性,是一种窄带隙n型半导体材料,在光电子器件、电 ...
更新:2024-03-19
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立方氮化硼微粉 [促销] 立方氮化硼微粉
立方氮化硼微粉,用在精密磨削、研磨、抛光和超精加工,以达到高精度的加工表面。适用于树脂、金属、陶瓷等结合剂体系,亦可用于生产聚晶 ...
更新:2024-03-19
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二硅化铬 [促销] 二硅化铬
二硅化铬用作陶瓷材料、高电阻薄膜材料。
更新:2024-03-19
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氮化铪 [新品] 氮化铪
氮化铪,hafnium nitride,HfN,立方晶结构。熔点3310℃,显微硬度16GPa, 相当稳定,
更新:2024-03-19
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二硅化锰 [促销] 二硅化锰
中文名称:硅化锰 二硅化锰英文名称:manganese disilicideCAS号:12032-86-9分子式:H53Mn15Si26分子量:1607.7145
更新:2024-03-19
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二硅化钒 [促销] 二硅化钒
二硅化钒,制备硅化钒薄膜,用大束流密度的钒金属离子注入硅,能够直接合成性能良好的薄层硅化物。
更新:2024-03-19
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二硅化铪 [促销] 二硅化铪
二硅化铪主要可用作精细陶瓷原料粉,用于生产半导体薄膜生产用坩埚。
更新:2024-03-19
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二硅化铌 [促销] 二硅化铌
二硅化铌可用作精细陶瓷原料。
更新:2024-03-19
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二硅化钽 [促销] 二硅化钽
二硅化钽用作精细陶瓷原料粉,用于陶瓷工业以及电接触器和半导体设备。
更新:2024-03-19
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二硅化铝 [促销] 二硅化铝
硅化铝用于制造低中强度的形状复杂的铸件,如盖板、电机壳、托架等。也用作钎焊焊料。
更新:2024-03-19
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二硅化钨 [促销] 二硅化钨
硅化钨用于制抗氧化覆盖层和电阻丝敷剂。
更新:2024-03-19
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高纯硼粉 [新品] 高纯硼粉
硼为黑色或银灰色固体。晶体硼为黑色,硬度仅次于金刚石,质地较脆。
更新:2024-03-19
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二硅化钼 [促销] 二硅化钼
硅化钼,灰黑色粉末,密度6.28克/立方厘米,熔点2030度,二硅化钼的应用于高温抗氧化涂层材料、电加热元件、集成电极薄膜、结构材料、复合 ...
更新:2024-03-19
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二硼化钒 [促销] 二硼化钒
二硼化钒可用于导电陶瓷材料等领域,属于原子晶体。
更新:2024-03-19
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硼化钨 [促销] 硼化钨
硼化钨用于耐磨件的耐磨涂层及半导体薄膜。
更新:2024-03-19
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二硼化铌 [促销] 二硼化铌
硼化铌,二硼化铌,为灰色六方结晶,主要用作精细陶瓷原料。
更新:2024-03-19
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二硼化钽 [促销] 二硼化钽
二硼化钽,灰黑色粉末,因具有很高的硬度,可用作高温材料和磨料。
更新:2024-03-19
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二硼化铬 [新品] 二硼化铬
硼化铬用作耐磨、抗高温氧化涂层和核反应堆中的中子吸收涂层。用于陶瓷,熔喷在金属及陶瓷表面,形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。 ...
更新:2024-03-19
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