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一种原位合成任意形状NiTi形状记忆合金的方法

申请号/专利号:

201010243198.8

申 请 日: 2010.08.03
名 称: 一种原位合成任意形状NiTi形状记忆合金的方法
公开(公告)号: CN101899592A 公开(公告)日: 2010.12.01
主分类号: C22C19/03(2006.01)I 分案原申请号:
分 类 号: C22C19/03(2006.01)I;C22C14/00(2006.01)I;C22C1/04(2006.01)I
颁 证 日: 优 先 权:
申请(专利权)人:

华中科技大学

*相关专利
地 址: 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
发明(设计)人:

王泽敏;曾晓雁;曹宇;关凯

*相关专利
国际申请:
国际公布: 进入国家日期:
专利代理机构: 华中科技大学专利中心 代 理 人: 曹葆青
想进一步了解专利详情,请 想以后再联系,请
专利描述:
本发明公开了一种原位合成任意形状NiTi形状记忆合金的方法,步骤包括:粒径小于50μm且平均粒径相同的纯Ti粉和纯Ni粉按近等原子比例均匀混合、利用选区激光熔化快速成形的方法,在纯Ti金属基板上逐层预置10~20μm厚度的混合粉末层;然后利用聚焦光斑直径小于等于40μm的连续YAG或光纤激光器,在水、氧含量小于10ppm的保护环境下,将混合粉末逐点逐线逐层熔化,完成设计形状的NiTi形状记忆合金的原位合成及熔化堆积加工。本发明可以克服现有技术的难点,提供一种周期短、成本低、柔性化程度高,能合成任意形状、致密度近乎100%、且无成分偏析和杂质的镍钛形状记忆合金。
标签:记忆合金 NiTi形状记忆合金 NiTi
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