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一种太阳能电池薄膜的生长方法

申请号/专利号:

201010620327.0

申 请 日: 2010.12.31
名 称: 一种太阳能电池薄膜的生长方法
公开(公告)号: CN102154708A 公开(公告)日: 2011.08.17
主分类号: C30B33/00(2006.01)I 分案原申请号:
分 类 号: C30B33/00(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I
颁 证 日: 优 先 权:
申请(专利权)人:

常州天合光能有限公司

*相关专利
地 址: 213031 江苏省常州市新北区电子产业园天合路2号
发明(设计)人:

刘亚锋

*相关专利
国际申请:
国际公布: 进入国家日期:
专利代理机构: 常州市维益专利事务所 32211 代 理 人: 王凌霄
想进一步了解专利详情,请 想以后再联系,请
专利描述:
本发明涉及太阳能电池制造技术领域,尤其是一种薄膜的生长方法,主要步骤为对太阳能用晶体硅片进行表面制绒,送入氧化炉进行氧化工艺,对氧化膜进行退火处理,然后进行后续太阳能电池工艺。本发明氧化膜生长速度快,质量高,钝化性能优越;硅片在低温下进出炉管,氧化膜应力小,缺陷少;本发明的氧化工艺和退火工艺在同一个设备中进行,产量高。
标签:天合光能 太阳能电池 薄膜电池 晶硅片
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