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一种新型负性化学放大光刻胶及其成像方法

申请号/专利号:

201310277171.4

申 请 日: 2013-07-03
名 称: 一种新型负性化学放大光刻胶及其成像方法
公开(公告)号: 103309160A 公开(公告)日: 2013-09-18
主分类号: G03F7/038(2006.01)I 分案原申请号:
分 类 号: G03F7/038(2006.01)I G03F7/00(2006.01)I
颁 证 日: 优 先 权:
申请(专利权)人:

北京科华微电子材料有限公司 北京科华丰园微电子科技有限公司

*相关专利
地 址: 101312 北京市顺义区竺园路4号(天竺综合保税区)
发明(设计)人:

孙嘉 陈昕 罗杰·森特 李冰 刁翠梅 李海波 韩现涛

*相关专利
国际申请:
国际公布: 进入国家日期:
专利代理机构: 北京驰纳智财知识产权代理事务所(普通合伙 代 理 人: 谢亮 赵德兰
想进一步了解专利详情,请 想以后再联系,请
专利描述:
本发明提供一种新型负性化学放大光刻胶及其成像方法,该负性化学放大光刻胶含有苯酚类树脂、光致产酸剂、交联剂、碱性添加剂、敏化剂和光刻胶溶剂。其中苯酚类树脂是所述新型负性化学放大光刻胶的主体材料,光致产酸剂是在光照时能够产生一定强度的酸,交联剂能够与酚羟基或邻/对位羟甲基官能团发生缩和反应。在所述新型负性化学放大光刻胶成像方法中包括涂布、烘烤、曝光、烘烤和显影等步骤。本发明所述的化学放大负性光刻胶,可以有效提高光刻胶的分辨率及感光速度,同时与正性光刻胶所用的试剂相同,适用于高档集成电路、平板显示及半导体照明芯片制造等领域。
标签:科华微电子 光刻胶
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