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高介电常数聚酰亚胺薄膜及其制备方法和应用

申请号/专利号:

201310746333.4

申 请 日: 2013-12-30
名 称: 高介电常数聚酰亚胺薄膜及其制备方法和应用
公开(公告)号: 103724624A 公开(公告)日: 2014-04-16
主分类号: C08G73/10(2006.01)I 分案原申请号:
分 类 号: C08G73/10(2006.01)I C08J5/18(2006.01)I
颁 证 日: 优 先 权:
申请(专利权)人:

深圳市惠程电气股份有限公司

*相关专利
地 址: 518118 广东省深圳市坪山新区大工业区兰景北路惠程科技园
发明(设计)人:

侯豪情 吕晓义 何平

*相关专利
国际申请:
国际公布: 进入国家日期:
专利代理机构: 代 理 人:
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专利描述:
本发明提供一种聚酰亚胺薄膜,它是由式(I)所示结构的聚酰胺酸形成聚酰胺酸薄膜后,经亚胺化得到的高介电常数的聚酰亚胺薄膜;其结构如下式(III)所示:其中,R1是含芳环的二酐残基;R2是含芳环的二胺残基;Pn是聚苯胺的链段结构;n是聚合物重复单元数,在100至500之间。本发明的聚酰亚胺薄膜具有高介电常数、低介电损耗、耐高温、高强度、高化学稳定性,适合用作高储能的电子器件的介电层。同时本发明的一些柔性聚酰亚胺材料,表现出良好的电致伸缩性能,能够很好地实现电能和机械能的转换。本发明所述的高介电常数的聚酰亚胺薄膜在电子、电机、电能输送行业以及机电能量转换技术领域中都将得到广泛的应用。
标签:惠程电气 聚酰亚胺薄膜
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