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产品用途:
² 供半导体器件、光器件、电声器件中的薄膜制备工艺设备
产品特点:
² 控温器采用高精度温控仪,采用大屏幕全中文显示
² 进口质量流量计控制
² 所有气路管件的配置均为进口
² 动作顺序为PLC控制
主要技术指标:
² 制备3—4寸SI3N4多晶硅和二氧化碳薄膜
² 温度:400—900℃
² 静态恒温区:600mm±0.5℃
² 真空机组:机械泵+罗茨泵(或干泵)
² 通入气体:SiH4、NH3和N2
浙公网安备 33010602000811号