非晶相陶瓷涂层坩埚及制备方法 |
| 申请号/专利号： |
201110185256.0 |
申 请 日： |
2011.07.04 |
| 名 称： |
非晶相陶瓷涂层坩埚及制备方法 |
| 公开(公告)号： |
CN102312185A |
公开(公告)日： |
2012.01.11 |
| 主分类号： |
C23C4/10(2006.01)I |
分案原申请号： |
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| 分 类 号： |
C23C4/10(2006.01)I;C23C4/12(2006.01)I;C30B35/00(2006.01)I |
| 颁 证 日： |
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优 先 权： |
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| 申请(专利权)人： |
*相关专利 |
| 地 址： |
213031 江苏省常州市新北区电子产业园天合路2号 |
| 发明(设计)人： |
付少永;张驰;熊震;黄振飞 *相关专利 |
国际申请： |
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| 国际公布： |
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进入国家日期： |
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| 专利代理机构： |
常州市维益专利事务所 32211 |
代 理 人： |
王凌霄 |
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想以后再联系，请 |
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| 专利描述： |
| 本发明涉及一种非晶相陶瓷涂层坩埚及制备方法。在该坩埚的内壁具有非晶陶瓷薄膜。其制备方法为：a、高熔点陶瓷粉体喷雾造粒，粒径控制在15-60μm，微观形貌为球形或椭球形；b、热喷涂制备非晶涂层。本发明的有益效果是：采用高熔点粉体通过热喷涂制备的非晶态致密薄膜，其气孔率小于5％，薄膜厚度大于50μm，X射线衍射不能观察到明显衍射峰。电子探针显示氮元素原子比例大于40％。 |
| 标签：天合光能 非晶 |
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