5公斤级气相沉积CVD回转窑间歇炉连续炉

设备用途:设备可用于粉体、颗粒物料、硅负极材料气相沉积碳包覆等工艺的高温裂变。
设备主体尺寸:1800mmx1200mmx1700mm(以***终设计方案为准)。
回转炉体尺寸:Ф320mmx600mm(实际装填物料工作区尺寸)。

设备设计填充：≤12L
设备设计产能:炉内***大填充率约为20%;***大批次处理3-5kg。
炉体倾角:-4~15度(自动可调)/简体转速:0.25~4转/分(变频可调)。
炉内气氛环境:满足高纯氨气(或者其他惰性气体)、乙炔、硅烷、甲烷等混合气体。
设备使用温度:设计***高1100℃，炉内恒温时间跟据客户工艺可调，可长期运行于1000℃。
加热方式:内嵌电阻丝模块圆周加热。
加热温区及控温个数:3个。
温控系统:岛电触摸屏+岛电模块(支持所有温度数据采集并导出PC)控温稳定性:+2℃℃/温控表精度:0.3℃℃/设备表面温升:<60℃。电源:三相，380VAC,50HZ。
装机功率:30KW+10%。