| 专利描述：本发明涉及到单体、聚合物以及由此制备的适用于深紫外光源、尤其是ArF光源的光刻 工艺光刻胶，又称光致抗蚀剂。本发明中新型的聚合物包括共聚物和三聚物，具体可用化学 结构式1表示。 其中氟代环烯烃单体中的R1 ... |
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| 专利描述：本发明公开了一种以有机氟硅改性弹性聚氨酯脲树脂为基料制备高 性能风电涂料。高性能风电涂料是由有机氟硅改性弹性聚氨酯脲树脂之A 组分与B组分按比例配匀进行涂装。配匀高性能风电涂料强韧耐磨且兼具 高弹性， ... |
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| 在醇溶剂中制备有机氟化物的方法 |
专利号：200580043130.2 |
| 申请人/专利权人：未来化学株式会社;峨山社会福祉财团 |
发明设计人：文大赫;池大润;金东昱;吴承埈;柳真淑 |
| 专利描述：本发明涉及一种包含放射性同位素氟-18的有机氟化物的制备方法。 更特别地，本发明涉及一种在作为溶剂的化学式1的醇的存在下，通过包 含放射性同位素氟-18的氟盐与烷基卤或烷基磺酸盐反应，以获得高收率 的有机氟 ... |
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| 氟硅氧烷以及含氟和硅的表面处理剂 |
专利号：CN200680015871.4 |
| 申请人/专利权人：道康宁公司；大金工业株式会社 |
发明设计人：山本育男;南晋一;桝谷哲也;彼得·C·胡佩费尔德;阿夫里尔·E·舍其诺 |
| 专利描述：本发明提供了氟硅氧烷以及含氟和硅的表面处理剂。本发明公开了巯基官能化有机聚硅氧烷与含氟单体的氟硅氧烷反应产物以及制备所述氟硅氧烷的方法。所述氟硅氧烷产物适合用于底材如纺织品，尤其是织物，从而将疏油 ... |
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