一种喷淋板及包含该喷淋板的等离子箱 |
| 申请号/专利号： |
201320004796.9 |
申 请 日： |
2013-01-06 |
| 名 称： |
一种喷淋板及包含该喷淋板的等离子箱 |
| 公开(公告)号： |
203187752U |
公开(公告)日： |
2013-09-11 |
| 主分类号： |
C23C16/455(2006.01)I |
分案原申请号： |
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| 分 类 号： |
C23C16/455(2006.01)I C23C16/44(2006.01)I |
| 颁 证 日： |
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优 先 权： |
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| 申请(专利权)人： |
*相关专利 |
| 地 址： |
518117 广东省深圳市龙岗区坪地高桥格坑工业园3栋2楼 |
| 发明(设计)人： |
吴文基 郑泽文 刘丽娟 *相关专利 |
国际申请： |
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| 国际公布： |
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进入国家日期： |
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| 专利代理机构： |
北京安博达知识产权代理有限公司 1127 |
代 理 人： |
徐国文 |
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| 专利描述： |
| 本实用新型公开了一种喷淋板和包含该喷淋板的等离子箱，喷淋板的主体为不锈钢板，不锈钢板的下板面上开设有凹槽，凹槽包括交替设置的激发电极凹槽和接地电极凹槽；不锈钢板上设有位于凹槽两侧且贯穿不锈钢板上、下板面的通孔。该等离子箱包括喷淋板，盖板以及交替布置的N个激发电极和N+1个接地电极，N为整数；最外侧的两个接地电极作为等离子箱的侧板，各相邻的电极之间形成放电区；激发电极和接地电极的顶部、底部分别设有一公共的喷淋板；位于顶部的喷淋板顶端设有一底部开口的中空状盖板，并与盖板组成半封闭式腔体，盖板上设有进气口。该喷淋板能改善大面积等离子箱放电区中工作气体压力分布的均匀性，进而提高沉积薄膜厚度的均匀性。 |
| 标签：宇光高科 等离子箱 喷淋板 |
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