一种正型光刻胶组合物及正型光刻胶显影工艺 |
| 申请号/专利号： |
201310276738.6 |
申 请 日： |
2013-07-03 |
| 名 称： |
一种正型光刻胶组合物及正型光刻胶显影工艺 |
| 公开(公告)号： |
103324030A |
公开(公告)日： |
2013-09-25 |
| 主分类号： |
G03F7/039(2006.01)I |
分案原申请号： |
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| 分 类 号： |
G03F7/039(2006.01)I G03F7/32(2006.01)I |
| 颁 证 日： |
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优 先 权： |
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| 申请(专利权)人： |
*相关专利 |
| 地 址： |
101312 北京市顺义区竺园路4号(天竺综合保税区) |
| 发明(设计)人： |
郑金红 陈昕 罗杰·森特 李冰 韩现涛 *相关专利 |
国际申请： |
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| 国际公布： |
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进入国家日期： |
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| 专利代理机构： |
北京驰纳智财知识产权代理事务所(普通合伙 |
代 理 人： |
谢亮 赵德兰 |
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| 专利描述： |
| 本发明提供了一种正型光刻胶组合物及一种正型光刻胶显影工艺步骤。所述正型光刻胶组合物包含聚合物（A）、光致产酸剂（B）、溶剂以及添加剂，同时所述正型光刻胶组合物还包括了光敏剂（C）和含氮化合物（D），它能够吸收波长为365nm的光能，受激发后，把电子转移给在365nm无吸收的光致产酸剂，使光致产酸剂产酸。同时，本发明所提供的正型光刻胶显影工艺步骤能够利用光刻胶在基片上形成图像。按照本发明所提供的光刻胶组合物在365nm的光辐照形成图像时，感光速度快、分辨率高、线条边缘粗糙度小。 |
| 标签：科华微电子 光刻胶 |
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